氟化铵

英文名 Ammonium fluoride

分子式 NH4F

分子量 37.04

CAS号 12125-01-8

用于制备一种非离子型低表面张力的酸性氟化铵蚀刻液TFT 基板上设置有大量的薄膜、薄层，所以为了防止这些之间发生不希望的电短路，优选将蚀刻后的基板的切断侧面即蚀刻轮廓 (profile) 均等地倾斜，且下方比上方宽，为钝锥 (taper) 形状。这是由于蚀刻轮廓为钝锥形状的情况下，所形成的 2 个以上的薄膜层之间的高度差会减少。蚀刻方法具有利用气体的干式蚀刻和利用蚀刻液的湿式蚀刻，尽管湿式蚀刻具有缺点，但是其工序所需的设备投资费用低，无需将蚀刻环境维持在高真空状态，对掩模和基板均有优异的蚀刻选择性。主要成分为氢氟酸（HF）和氟化铵（NH4F）的酸性氟化铵蚀刻液又称为B.O.E. (Buffered Oxide Etch)蚀刻液，在半导体工业中也常广泛使用于蚀刻无光刻胶护罩的氧化层。

CN201310677422.8提供一种不含金属离子，不易残留，且表面张力小，渗透性强的非离子型低表面张力的酸性氟化铵蚀刻液。本发明的技术方案为：一种非离子型低表面张力的酸性氟化铵蚀刻液，其特征在于，所述非离子型低表面张力的酸性氟化铵蚀刻液由下列组分组成，所述组分的质量百分含量为：

氟化氢（HF）：         5~15%；

氟化铵（NH4F）：       20~40%；

添加剂：               0.01~0.1%；

去离子水               余量；

EINECS 235-185-9

密  度 1.11 g/mL

沸  点 65°C

熔  点 98°C

性 状 白色结晶状粉末，易潮解

溶解性 溶于冷水，溶液呈酸性，微溶于乙醇，受热或遇温水即分解，对玻璃有腐蚀性

用 途：

1、用作玻璃蚀刻剂、防腐剂、剂、纤维媒染剂等。

2、用作金属表面的化学抛光剂、也用于提取稀有元素等。

3、用作分析试剂、掩蔽剂。

4、氟化铵也可用于钛及硅片的蚀刻，用于钛的蚀刻需要在蚀刻液中添加硝酸或铬酐等氧化物质以防止氢脆的发生。

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